Máy quang phổ phát xạ P.l.a.sma (ICP-OES) S.PECTROBLUE

Xuất xứ: Đức
Giới thiệu chung:
S.P.ECTROBLUE là thiết bị quang phổ phát xạ nguyên tử
ICP-OES. Sản xuất năm: 2014, đảm bảo thiết bị mới 100%
– Hệ thống đạt tiêu chuẩn ISO 9001:2008, CE-mrked, và các tiêu
chuẩn an toàn điện, từ quốc tế liệt kê dưới đây:
LV Directive 73/23/EEC
EMC Directive 89/36/EEC
EN6101-1:1993 including AMD2: 1995
– Hệ thống ICP phân tich đồng thời các nguyên tố, đọ phân giải cao
(High resolution simultaneous ICP) có kết cấu hoàn hảo kết hợp
tối ưu những tính năng linh hoạt, tốc độ, công suất cao của Hệ thống
ICP đồng thời và tính linh hoạt, độ chính xác của Hệ thống ICP tuần tự
– Thời gian ổn định hệ thống <30 phút (kể từ khi khởi động và làm nóng máy) cho tín hiệu ổn định
Hệ thống bao gồm:
1.Máy chính: Máy quang phổ p.h.át xạ ICP-OES
Model: SPECTRO BLUE™
Hãng SX: SPECTRO – Đức
2.Hệ thống đưa mẫu
Hãng SX: SPECTRO – Đức
3.Bộ lấy mẫu tự động (Autosampler)
Model: ASX-260
Hãng SX: SPECTRO – Đức
4.Máy tính điều khiển và Phần mềm vận hành, xử lý số liệu
Model: SPECTRO BLUE^TM SOP/EOP Software
5.Hệ thống hút khí – Exhaust system
6.Bộ phụ kiện tiêu hao dùng cho 3 năm

CHI TIẾT VỀ MÁY VÀ BỘ PHỤ KIỆN:
1.Máy quang phổ phát xạ ICP-OES
Hãng SX: SPECTRO – Đức
Đặc tính kỹ thuật
The Radial View Inductively Coupled Plasma – Optical Emission Spectrometer (ICP-OES) là một máy quang phổ mà có thể đo tự động và liên tục với nguồn phát Plasma kết hợp với hệ thống đầu dò bán dẫn, dùng để phân tích định lượng, bán định lượng, hóa phổ nguyên tố, chất lỏng mà không cần bổ sung khí đốt, đồng thời cũng không cần hệ thống nước tuần hoàn để làm mát cho bộ phận Plasma
Side-On Plasma Interface (SPI) tích hợp cho việc gia tang độ chính xác tuyến tính, thiết thực cho việc xác lập độ chính xác với nồng độ cao, đặc biệt với việc xác định nguyên tố chính trong kim loại, TDS cao, hữu cơ hoặc bùn than.
Với việc tối ưu hóa dòng chảy thấp, bộ phận lọc (SPI) đảm bảo đường sáng, giảm tải việc hấp thụ bước song tia cực tím, điều này giúp cho việc vệ sinh bảo dưỡng hệ thống đường vào quang học dễ dàng hơn, cung  cấp cho hệ quang học độ ổn định trong phân tích cũng như sự nhạy cảm của ánh sáng trong vùng quang phổ có bước sóng từ  165nm đến 770nm.
Hệ đa sắc (Polychromator)

Nhiệt độ ổn định +15%°C ± 0.5°C

Hệ quang thiết kế hình vòng Paschen-Runge mounting
Chiều dài tiêu cự 750 mm
Hệ thống giao thoa sử dụng thấu kính lõm cho hệ grating ( vừa tán sắc, vừa phản xạ )
Grating sử dụng của Zerodur (http://en.wikipedia.org/wiki/Zerodur )
Full 1^st order bao gồm vùng phủ sóng
Phạm vi vùng bước sóng : 165 – 770 nm
Bề rộng của khe sáng vào: 15 µm
Độ phân giải quang học: 0.008 nm at 165 – 285 nm; 0.016 nm độ phân giải liên tục ở bước sóng lớn hơn 285 nm.

Đầu dò (Detector)

15 đầu dò CCD được bố trí liên tục  và tối ưu hóa theo dải bước sóng
Độ phân giải là 3648 điểm ảnh cho mỗi mảng
Độ phân giải điểm ảnh: 165-285 nm 3 pm, >285 nm 6 pm
Nhiệt độ ổn định hệ thống quang học (+15°C ± 0.5°C)
Hệ thống xuất dữ liệu song song
Xử lí số liệu cho mỗi mảng CCD
Hệ thống thu thập dữ liệu thông minh và giảm tải dữ liệu
Dải động lên tới 9 bậc của biên độ.
Thời gian tích hợp ngắn nhất 0.1 ms
Thời gian đo lường ngắn nhất cho mỗi đầu dò: 4 sec (bao gồm cả việc đo đạc cũng như đánh giá quang phổ)
Thời gian tích hợp cho việc tối ưu hóa mỗi điểm ảnh theo chiều cao tín hiệu
Truy cập quang phổ một cách đầy đủ nhất
Tự động hiệu chỉnh dark current
Tự động hiệu chỉnh profile đường chuẩn
Sử dụng giao thức TCP/IP cho việc kết nối và kết xuất dữ liệu

Hệ thống UV (Ultra violet: tia cực tím)

Hệ thống UV-PLUS
Hệ thống ống dẫn khí Argon
Đường vào quang học kép , dễ dàng trong việc vệ sinh bảo dưỡng
Hệ thống tự động làm sạch khí
Khoảng thời gian để thay lọc khí: 10-15 tháng
Bộ tạo nguồn (RF):
Tần số : 27.12 MHz
Công xuất tối đa RF: Maximum 1700 watts (trong dải từ 700 đến 1700 kW)
Làm mát bằng không khí (Không yêu cầu làm mát bên ngoài)
Hiệu suất máy: 70%
Công suất ổn định <0.1%
Plasma đánh lửa tự động
Chế độ chạy không (tiết kiệm năng lượng, tiết kiệm argon)
Máy tính kiểm soát hoàn toàn
RF tuân thủ : hệ thống tuân thủ theo hệ thống chuẩn về công nghiệp
và y học quốc tế , dải tần số phải đáp ứng FFC cho việc cấp phép và
chứng nhận yêu cầu cho RF phát thải
Bộ tạo nguồn cung cấp được thiết kế tích hợp hoàn toàn trong hộp kín
Hệ thống điều khiển khí Argon
Hệ thống được điều khiển hoàn toàn bằng máy tính
Khí cung cấp cho Plasma  : 0 – 20 l/p in 0.1 l/p tăng dần
Khí phụ trợ                       : 0 – 3 l/p in 0.01 l/p tăng dần
Ống phu khí                      : 0 – 1.5 l/p in 0.01 l/p tăng dần
Áp suất ống phun khí        : 0- 8 bar (display only)
Đường ánh sáng          : 0 – 3 l/p in 0.1 l/p tăng dần